新闻资讯
当前位置:首页新闻中心行业新闻
行业新闻
03
中国造出首台自主新式光刻机,未来可造10nm芯片

MK 2018-12-10

中科院光电技术研究所项目副总师胡松透露,新验收的光刻机,加工能力介于深紫外级和极紫外级之间,使用了365纳米紫外光的汞灯,一只费用仅为数万元,而光刻机整机价格在百万元至千万元级。

北京时间11月29日,中科院光电技术研究所宣布国家重大科研装备研制项目"超分辨光刻装备研制"通过验收,成为全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机。

全新路线,完美避开国外厂商专利

该光刻机在365纳米波长光源下,单次曝光最高线宽分辨率达到22纳米,相当于1/17波长。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线。

联系方式

大陆:中国·深圳·留仙洞战略性新兴产业总部基地国际创新谷一期1栋A座2F

邮编:518055

电话:0755-26900702

邮箱:mk@mkfounder.com